Высокоточные источники плазменной резки

Плазменная резка быстро становится предпочтительной технологией во всём мире. Плазменная резка обеспечивает более быстрый процесс резки, чем газокислородная резка в диапазоне меньших толщин и её применение возможно на всех проводящих материалах, включая малоуглеродистую сталь, нержавеющую сталь и алюминий. С официальным выпуском источников плазменной резки HiFocus и HyDefinition, соответственно, от Kjellberg® и Hypertherm®, которые дают плазменной дуге больше стабильности и мощности, стало возможным получать результаты резки значительно более высокого качества.

Все источники плазмы Voortman V302 имеют новейшую технологию, которая называется Высокоточная Плазма (High Definition). Технология Высокой Точности придаёт плазменной дуге большую стабильность и мощность, и качество резки может быть значительно более высоким. Высокоточная плазма обеспечивает практически такое же качество резки, как лазер, по отношению к перпендикулярности кромки и количеству окалины.

Voortman поставляет установки с различными источниками плазмы с максимальным током резки от 130 до 400 А, которые позволяют нашим заказчикам раскраивать листы толщиной до 120 мм.

 

Поделиться страницей:

Посмотрите последнюю
версию журнала
и брошюры
Связаться с Voortman